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Sotto-impianto da Vuoto di FTU

L’impianto da vuoto serve a realizzare un alto grado di vuoto all’interno della camera di FTU al fine di rendere la stessa il più possibile pulita per ottenere un plasma ad alta performance.

Il valore del vuoto nella camera a temperatura criogenica (-180°C) è minore di 10-8 mbar, mentre a temperatura ambiente è dell’ordine di 10-6 mbar.
Con temperature della camera intorno ai 150°C (durante il baking) il valore del vuoto raggiunge i 10-4 mbar.
Dopo uno shot di plasma il valore del vuoto generalmente sale a 10-7 ÷ 10-6 mbar, mentre prima dello sparo il valore deve tornare a circa 2.10-8 mbar.
L’impianto da vuoto è stato realizzato dalla Peiffer Vacuum ed è costituito da:

Per il prevuoto vengono usate pompe rotative marca 'PFEIFFER mod. DUO 060 A'.
Per l’alto vuoto vengono usate pompe turbomolecolari marca 'PFEIFFER mod. TPU 2200' con pompe boost rotative dello stesso tipo di quelle usate per il prevuoto.

Mimico sinottico del sotto-imp. da vuoto di FTU
visualizzato su uno schermo del banco di manovraVacuum plant synoptic